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半導體rtp是什麼

快速熱處理

半導體RTP(快速熱處理)是一種半導體制造技術。

這項技術涉及在幾秒或更短的時間內將晶圓加熱到1000℃左右的溫度,然後進行短時間的熱處理。RTP系統使用輻射熱源對晶片進行一片一片的加熱,溫度測量和控制通過高溫計完成。這種處理方式主要用於氧化退火金屬硅化物的形成和快速熱化學沉積等應用。與傳統的爐膛退火相比,RTP的效率更高,因爲它可以產生優質的硅化物和氧化物,同時降低溫度和時間的熱預算。RTP系統通常具有晶片旋轉功能,以提高熱處理的均勻性。