去除二氧化矽的方法有多種，具體選擇取決於二氧化矽的形態、純度和所需處理的物質。常見的去除二氧化矽的方法包括：
吸附法。使用活性炭、分子篩等吸附劑，將二氧化矽吸附在其表面。
沉澱法。通過調節溶液的pH值或加入沉澱劑（如氫氧化鈣、氫氧化鈉），使二氧化矽沉澱下來。
膜分離法。使用半透膜將二氧化矽分離出來。
化學吸附法。使用化學吸附劑將二氧化矽吸附其中，但成本較高。
熱力學處理法。如焙燒，改變二氧化矽的物理和化學性質。
凝聚脫矽法。利用金屬氧化物或氫氧化物對矽的吸附或凝聚來達到脫矽目的。
反滲透法。利用反滲透膜去除膠體矽和溶解矽。
超濾法。通過超濾膜去除膠體矽。
電凝聚脫矽法。利用電化學方法通過電極反應產生金屬水合物凝聚劑，實現聚沉。
離子交換法。通過離子交換樹脂去除二氧化矽。
高溫還原法。在高溫下用炭黑還原二氧化矽為矽。
化學處理法。如使用NaOH溶液和過量CO2，將二氧化矽轉化為可溶性鹽。
石灰軟化法。通過加入含有氫氧化鈣的石灰降低水中二氧化矽含量。
選擇合適的去除方法時，需要考慮二氧化矽的類型、純度、處理物的具體要求以及操作條件等因素。